高效赋能半导体制造：中电华星CAE3000-H 系列 3000W 电源
在半导体制造领域，高精度电源的稳定性、可靠性与灵活性直接影响芯片制程的良率与设备效率。深圳市中电华星电子技术有限公司全新推出的CAE3000-H 系列 3000W AC/DC 整机电源，以医疗级安全标准、高功率密度设计及智能化控制功能，专为半导体设备量身打造，助力刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入系统等关键制程实现能效突破。
核心优势：半导体制造场景深度适配
1. 高功率密度与紧凑设计
CAE3000-H 系列以 4.28”x10.95”x1.61” 的小尺寸实现 3000W 最大功率输出，功率密度达 40W/in³，可轻松集成于半导体设备狭小空间内。其 - 20℃-70℃宽温工作范围与 5000 米高海拔适应能力，满足洁净室、真空腔体等特殊环境下的稳定运行需求。
2. 宽范围电压输出与精准控制
• 多规格电压灵活适配：提供 24V 至 150V 共 11 种标准输出电压（如 24V、48V、100V、150V 等），额定电流覆盖 20A-125A，适配半导体设备中离子源、射频电源、偏压电源等不同模块的供电需求。
• 恒流可调与主动均流：支持输出电压与恒流电流双向调节，配合主动式均流技术，可实现多电源并联扩容，构建万瓦级供电系统，满足大型半导体制造设备的高功率需求。
3. 半导体级可靠性与安全标准
• 医疗级隔离与安规认证：具备 2xMOPP 绝缘等级，通过 TUV EN 60601-1、UL 60601-1 等医疗安规认证，同时符合 Semi F47-0706 标准，确保半导体制程中高电压、高精密环境下的电气安全。
• 全链路保护机制：集成过压、过流、短路、过温保护功能，输入欠压自动重启，配合 95％ 的转换效率（230Vac 输入），减少能量损耗与设备发热，提升系统稳定性。
技术亮点：驱动半导体设备智能化升级
1. 智能控制与信号交互
• DC_OK 实时监测信号：实时反馈主输出状态，当电压达到规格范围时自动置高，便于半导体设备主控系统实时监控电源运行状态，预防制程中断。
• 远端电压补偿与遥控开关：通过远端检测补偿连接线压降（最大 500mV），确保长距离走线时的电压精准性；遥控开关功能支持远程控制电源启闭，优化设备待机功耗，适配半导体产线自动化管理。
2. 低噪散热与 EMC 兼容性
智能风速控制结合 45dB 低噪音设计（80％ 负载距 1 米处），减少对半导体精密检测设备的干扰；EMC 性能符合 Class B 传导发射与 Class A 辐射发射标准，满足半导体车间严苛的电磁兼容要求。
3. 模块化通讯与定制化服务
• CAN/PMBus 通讯接口：可选配 CANBus 或 PMBus 通讯协议，兼容半导体设备的自动化控制系统，支持远程读取电源状态与参数配置。
• 半定制化开发：针对半导体特殊工艺（如真空环境、防腐蚀需求），提供 ORing 功能、特殊涂层外壳等定制化方案，满足个性化制程要求。
应用场景：覆盖半导体全制程解决方案
1. 薄膜沉积与刻蚀设备
在 PECVD、ICP 刻蚀等设备中，CAE3000-H 系列可提供稳定的射频偏压电源，通过主动均流技术并联多台电源，满足大面积晶圆制程的高功率需求，配合远端电压补偿确保电极间电压均匀性，提升薄膜沉积厚度一致性与刻蚀精度。
2. 离子注入与电子束光刻
为离子注入机的加速电源、聚焦电源提供高电压（如 100V、120V）与高精度恒流输出，支持电压微调与恒流控制点调节，确保离子束能量稳定性，降低晶圆损伤率；在电子束光刻设备中，稳定的电源输出可保障电子束斑尺寸的一致性，提升纳米级图案的光刻精度。
3. 半导体检测与封装设备
5V/2A 辅助电源可为检测设备的传感器、控制器供电，DC_OK 信号与 LED 状态指示（支持过压、过流、过温等故障预警）便于设备维护；宽温设计与高海拔适应性，满足封装车间多设备协同运行的复杂环境需求。
可靠性验证：长生命周期与高稳定性
经 Telecordia SR-332 标准计算，CAE3000-H 系列在 25℃环境、额定负载下的 MTBF（平均无故障时间）达 50 万小时，设计寿命长达 5 年，可大幅降低半导体产线的停机维护成本。其通过 IEC 61000 系列电磁兼容测试（包括静电放电、辐射抗扰度等），在半导体车间复杂电磁环境中仍能保持稳定运行，保障制程连续性。
合作咨询：定制半导体电源解决方案
CAE3000-H 系列不仅是一款电源产品，更是半导体制造系统的核心动力引擎。深圳市中电华星电子技术有限公司依托多年工业电源研发经验，可为客户提供从规格选型、技术对接至产线集成的全流程支持。
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